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可千万别是什么冒充骗钱的呀!
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极紫外光光源这个东西,说起来是euv开发的三大难题之一。
有人这样形容光刻机:“这是一种集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域顶尖技术的产物。”
我们可以把光刻机看作一台高精度的底片曝光洗印机,它负责把“底片”,也就是设计好的芯片电路图曝光到“相片纸”上。这个“底片”有一个专业名称,叫做“掩膜”。而这里的“相片纸”,就是制造芯片的基底材料硅晶圆;曝光完成后得到的最终“照片”,就是芯片。
光刻机的基本结构最关键的部件只有三个:光源发射器、用来调整光路和聚焦的光学镜头,以及放置硅晶圆的曝光台。
正是因为光刻机的工作原理和基本结构并不复杂,所以,在芯片行业发展的早期,并没有专门的光刻机生产商。
芯片公司只需要到照相器材商店购买普通的相片洗印设备,然后自己加工改造一下就可以了。后来随着需求的不断提升,到现在智能手机的出现,对芯片提出了越来越高的要求。
经过这么多年的发展,博米公司虽然拥有着世界最高水准的芯片设计能力,可仍然缺乏芯片制造技术。
或者说,这一切的源头都卡在光刻机这里。
这就要说到芯片行业著名的“摩尔定律”。摩尔定律是指,每隔两年,同样大小的一块芯片上,晶体管数量会增加一倍。
换句话说,芯片的性能也增加一倍。但摩尔定律并不是客观的自然规律,而是芯片行业在激烈竞争中形成的经验规律:一旦芯片公司的研发速度落后于这个节奏,就将被无情淘汰。摩尔定律自从1965年提出后,统治了芯片行业长达半个世纪。
半个世纪以来,芯片上的晶体管数量一直在呈指数级增长。如果还把芯片比喻为“照片”的话,那么,这个照片的像素是呈指数级增长的。相应地,用来曝光洗印“照片”的光刻机的精度,也必须越来越高,否则,伱设计的“照片”再精美,印不出来也没有用。
比如,未来博米的智能手机需要用到低于10nm级别的芯片,生产这样的芯片,要用到的最先进的极紫外光刻机。
它的精度要达到什么样的程度呢?首先,如果把光想象成一把刻刀的话,那么光波越短,这把刻刀就越锋利。
1纳米等于百万分之一毫米,7纳米芯片意味着,它的每个元器件之间,只允许有几纳米的间隔距离,相当于一根头发丝粗细的万分之一。
要曝光这样的芯片,必须采用一种特殊的光源,也就是极紫外光,它的波长只有纳米,是可见光波长的几十分之一。
但是,极紫外光源很难
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